CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空气相镀膜
CVD真空气相沉积设备
侧式真空气相镀膜设备

LPMS CVD12

侧式真空气相镀膜设备

  • 不锈钢真空反应罐,结构合理,坚固耐用;真空管路采用不锈钢连节,方便维护及保养。

  • 1.2米大直径真空反应罐,单次镀膜数量多, 能满足大型工件的镀膜需求。

  • 侧开式门设计便于取放产品与腔体清洁等维护作业。

  • 反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中转动,镀层更均匀。

  • 使用数位LED真空计显示工作真空度。

  • 操作简易,可依实际需求变换自动 /手动操作模式。

  • 红外线加热圈,加温速度快。

  • 采用高精度温控装置多段控温,温控精确。

  • 定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能

  • 自诊功能和各种故障报警。

运用范围

       真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um的厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性、防潮、防霉、防腐、防盐雾的薄膜涂层。 

       广泛应用于:航空航天、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域产品的防水封装与保护工艺中。



产品规格

设备总尺寸 ( 宽度 , 深度 , 高度 ) / 重量

3000 mm x 1420 mm x 1620mm

反应罐体外径

ø1210 mm x1240 mm

反应罐罐口尺寸

890 mm x1200 mm

输入电压

三相 380 VAC / 50 Hz

设备最大功率

15 Kw

温控分区

6

分解炉温控范围

室温至700℃

升华炉温控范围

室温到150℃

原料门温控范围

室温到250℃

制冷压缩机功率

1000 W

制冷量

887 W

最低制冷温度

-90℃

真空泵型号

2RH 090C

真空泵抽气速率

90 m³

最大真空压力

≤ 5 Pa

真空泵电机功率

3.7 KW (三相380VAC)

真空泵电机转速

1440 R/Min

控制系统

10 ”人机界面,PLC 控制