CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空气相镀膜
CVD真空气相沉积设备
紧凑型侧式真空气相沉积设备

LPMS CVD05

紧凑型侧式真空气相沉积设备

  • 直径0.5米不锈钢真空反应罐,坚固耐用,镀膜速度快。

  • 机台一体式设计,结构紧凑,占地小。

  • 真空管路采用不锈钢连节,方便维护及保养。

  • 侧开式门设计便于取放产品与腔体清洁等维护作业。

  • 反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中匀速旋转,镀层更均匀。

  • 使用数位LED真空计显示工作状况时的真空度。

  • 操作简易,可依实际需求变换自动 /手动操作模式。

  • 红外线加热圈,加温速度快。

  • 采用高精度温控装置多段控温,温控精确。

  • 定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能

  • 自诊功能和各种故障报警。

  • 选配远程控制和手机APP功能



标签:   派瑞林Parylene

运用范围

 真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性防潮、防霉、防腐、防盐雾薄膜涂层。

广泛应用于:航空、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域产品的防水封装与保护工艺中

  



产品规格

设备总尺寸 ( 宽度 , 深度 , 高度 )

1170 mm x 1860 mm x 1970mm

反应罐体内尺寸

Ø500 mm x 600 mm

反应罐罐口尺寸

454 mm x 600 mm

输入电压

三相380 VAC / 50 Hz

设备最大功率

15 Kw

温控分区

6

分解炉温控范围

室温至700℃

升华炉温控范围

室温到150℃

原料门温控范围

室温到250℃

制冷压缩机功率

1000 W

制冷量

887 W

最低制冷温度

-90℃

真空泵型号

2RH 030C

真空泵抽气速率

30 m³

最大真空压力

5 Pa

真空泵电机功率

1.1 KW (三相380VAC)

真空泵电机转速

1420 R/Min

控制系统

10 ”人机界面,PLC 控制

远程控制和APP

选配



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